과정 상세
이 훈련 과정은 '반도체 공정 핵심정리 - Photo, Etching, Depo, CMP'로, Photolithography, Etching, Deposition, CMP 등 반도체 핵심 공정에 대한 전반적인 지식과 설비 원리 및 역할, 기본 동작 원리를 이해하여 관련 직무 역량을 강화하는 근로자 직업 능력 개발 훈련입니다. PC 및 모바일 수강이 가능하며, 교재가 무료 제공(일부 제외)됩니다.
훈련시간
19회차, 총 71시간
훈련대상
근로자
훈련 정보
훈련 장소
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