반도체 공정 핵심정리 - Photo, Etching, Depo, CMP
한국이러닝협회
과정 상세
- 요약: 본 훈련과정은 반도체 핵심 공정(Photo, Etching, Depo, CMP)에 대한 전반적인 지식 습득 및 현업 활용 능력 강화를 목표로 합니다. 반도체 생산 설비의 원리와 역할, 기본 동작 원리를 이해하고 각 단위 공정에 대한 심도 깊은 학습을 통해 공정 및 설비 관련 직무 역량을 강화할 수 있습니다.
- 분류: 실업자원격훈련
- 발행일: 2026-03-29
- 키워드: 19030602
과정 상세
본 훈련과정은 반도체 핵심 공정(Photo, Etching, Depo, CMP)에 대한 전반적인 지식 습득 및 현업 활용 능력 강화를 목표로 합니다. 반도체 생산 설비의 원리와 역할, 기본 동작 원리를 이해하고 각 단위 공정에 대한 심도 깊은 학습을 통해 공정 및 설비 관련 직무 역량을 강화할 수 있습니다.
훈련시간
56일, 총 71시간
훈련대상
반도체 분야 취업을 희망하거나 관련 직무 역량을 강화하려는 실업자 및 구직자
훈련 정보
훈련 장소
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